Substance Designer 2021 MAC是款适合使用Mac电脑的设计师们使用的纹理合成工具。Substance Designer
2021 MAC正式版包含广泛的工具，材料和程序效果库，可帮助您在完全非破坏性的工作流程中实现目标。Substance Designer 2021
MAC还可以帮助美术师高效地创建并且重复应用贴图，功能很全面。
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软件功能
材料创作
-创建具有完全控制和无限变化的材料。
-立即编辑完整的纹理集，并生成将在渲染器或游戏引擎中直接处理的Substance纹理和MDL材质。
扫描处理
-借助适用于摄影测量工作流程的过滤器和工具，可以进行处理扫描。
-Substance Designer具有一整套工具和滤镜，包括：裁剪工具，色彩均衡器工具，提取通道滤镜(多角度到反照率，多角度到法线，法线到高度)，智能补丁克隆工具，智能自动平铺工具。
导入各种内容
-导入程序sbs和sbsar文件，手绘图像，照片，扫描图和几何图形(.fbx和.obj)。也不用担心平铺– Substance Designer会自动处理它。
具有Iray路径跟踪功能的基于物理的实时视口
-使用实时PBR视口预览您的作品，就像在Unity和Unreal中显示的一样。通过自定义着色器匹配任何其他游戏引擎。
-在工作时使用Iray路径跟踪技术创建逼真的渲染，使用Yebis后期制作效果修饰您的作品，并直接在ArtStation上共享可用于投资组合的材料。
基于节点的非破坏性工作流
-Substance Designer具有4种图形类型：平铺纹理，MDL材质，数学函数和噪声编辑器。通过基于过程节点的非线性工作流，可立即编辑完整的纹理集。想在工作时改变一些东西吗?在保持当前工作不变的情况下，对任何先前的步骤进行更改。
强大的生成器，工具和过滤器
-结合了大量针对过程和混合工作流的预设过滤器和工具。
-访问和修改所有过滤器的来源。
集成
功能齐全的面包师-使用全套面包师可以轻松快速地进行烘焙。使用Substance Designer创建高达8K分辨率的非均匀(非正方形)烘焙。
-面包师包括：AO，法线，ID，高度，曲率，位置，polypaint，弯曲法线，颜色贴图，UV到SVG，不透明蒙版，厚度，转移的纹理，世界空间方向，世界空间法线。
软件特色
用于创建节点的新快捷方式编辑器
在此版本中，我们引入了一个新的快捷方式编辑器，该快捷方式编辑器允许定义键盘快捷方式以加快在不同图形模式下创建节点的速度。可通过“ 编辑”>“首选项”>“快捷方式”在主要首选项中访问新的快捷方式编辑器。默认情况下，每个快捷方式字段为空。
每种图形类型的快捷方式可以为Substance Designer中可用的每种图形类型定义快捷方式，从常规的合成图形到更高级的功能(例如功能和MDL)。
为原子节点和自定义过滤器分配快捷方式默认情况下，界面显示每种图形类型的原子节点。使用搜索字段可以优化列表，还可以访问自定义库过滤器和节点：
创建新的快捷方式
要为特定节点创建新的快捷方式，只需单击其名称旁边的文本字段，然后在键盘上键入所需的键。要清除快捷方式，请使用十字按钮。
管理快捷方式冲突
使用警告图标上的工具提示可了解有关冲突的更多信息。它提到了密钥是否与现有密钥冲突，或者应用程序已将其用于其他目的。
搜索快捷
方式如果要跟踪的快捷方式太多或默认情况下节点不可见，请使用搜索系统将其隔离：
新MaterialX插件(测试版)
在SIGGRAPH 2019期间，我们演示了用于Substance Designer的MaterialX插件。 MaterialX是由Industrial Light&Magic(ILM)开发的一种格式，允许艺术家创建可以在各种平台和许多用途(例如电影，电视节目，游戏，VR体验和制造)中使用的材料。这个新插件现已在Beta中提供，它允许创建MaterialX材料以用于其他兼容的DCC应用程序。看看我们最近 关于MaterialX的文章， 以了解有关此新插件背后的过程和目标的更多信息。
这个新的插件可以：
并行开发程序着色器和纹理。
为Substance Painter创建高级着色器，其功能包括在运行时可更改的细节图和程序蒙版。
在Substance Designer和Substance Painter视口中匹配游戏引擎或VFX管道中的着色器功能。
要获取该插件，只需前往Substance Share下载即可。
Adobe Color Engine(ACE)的新集成
除了OpenColorIO，现在还可以使用Adobe Color Engine(ACE)支持ICC配置文件进行颜色管理。这意味着您现在可以导入和导出经过校准的图像，以匹配其他软件，例如Photoshop和Illustrator。
启用Adobe Color Engine
使用项目设置来定义要使用的颜色管理系统：
更改屏幕配置文件
通过2D或3D视图预览图像时，请使用下拉菜单指定要使用的配置文件：
旧版色彩管理
的ACES现在，旧版色彩管理模式可提供ACES色调映射的输出转换。
改良面包师
我们通过以下两个主要方面对一些面包师进行了改进：
改进的采样
环境光阻塞，厚度和曲率面包师现在使用一种新的采样方法，可以大大提高烘焙结果的质量。它产生了更吸引人的噪音和更稳定的结果，而无需增加样本数量。下图在顶部显示了以前的采样方法，在底部显示了新方法，从左到右分别有4、8和16个采样(所有渲染均通过将抗锯齿设置为4x4子采样来完成)。
新的规范化设置
“厚度”和“高度图”烘焙器具有一个新的规范化参数，使您可以将原始值烘焙到纹理中，而不是0-1范围内的固定值。这对于高度图很有用，例如了解低多边形和高多边形网格之间的原始距离。除数值将精确对应于要在低多边形网格上设置的位移强度以匹配高多边形网格轮廓。为了正确地解释高度图，我们还公开了一个新的“标量零值”参数来定义对应于0的像素值。此外，手动系数可以解决由于每个UV-Tile引起的UDIM网格上的潜在接缝问题正常化。
改进的3D视图
3D视图改善了生活质量，使日常工作更加愉快：
渲染
器之间的参数同步现在，着色器参数在OpenGl和Iray之间同步，这使它们之间的跳转变得更加容易。
显示纹理输入预览并添加禁用参数
着色器输入参数现在可以显示其输入预览：它可以是统一的颜色参数，图形节点或位图。也可以取消选中某个参数以暂时禁用它。
设置中的环境贴图预览
转到 3D视图>环境>编辑时 ，现在可以预览用于照亮场景的环境贴图。
新的不亮着色器
默认情况下，包含一个名为“不亮”的新着色器。它不会对任何光照产生反应，而可以用于在网格上的视口中显示单个纹理。例如，这对于查看烘焙纹理很有用。
视口缩小后，在高DPI屏幕上的性能得到了改进与Substance Painter相似，现在在主要首选项中有一个名为Viewport Scaling的新参数，它检测到屏幕使用HDPI缩放(例如MacOS上的Retina屏幕)，并将自动划分视口分辨率by2。此行为可避免以太高分辨率绘制视口并提高总体性能。
当前设置值为：
无：无视口缩放。
自动(默认)：如果应用程序在HDPI屏幕上，则视口分辨率将除以2。
软件优势
材料创作
-创建具有完全控制和无限变化的材料。
-立即编辑完整的纹理集，并生成将在渲染器或游戏引擎中直接处理的Substance纹理和MDL材质。
扫描处理
-借助适用于摄影测量工作流程的过滤器和工具，可以进行处理扫描。
-Substance Designer具有一整套工具和滤镜，包括：裁剪工具，色彩均衡器工具，提取通道滤镜(多角度到反照率，多角度到法线，法线到高度)，智能补丁克隆工具，智能自动平铺工具。
导入各种内容
-导入程序sbs和sbsar文件，手绘图像，照片，扫描图和几何图形(.fbx和.obj)。也不用担心平铺– Substance Designer会自动处理它。
具有Iray路径跟踪功能的基于物理的实时视口
-使用实时PBR视口预览您的作品，就像在Unity和Unreal中显示的一样。通过自定义着色器匹配任何其他游戏引擎。
-在工作时使用Iray路径跟踪技术创建逼真的渲染，使用Yebis后期制作效果修饰您的作品，并直接在ArtStation上共享可用于投资组合的材料。
基于节点的非破坏性工作流
-Substance Designer具有4种图形类型：平铺纹理，MDL材质，数学函数和噪声编辑器。通过基于过程节点的非线性工作流，可立即编辑完整的纹理集。想在工作时改变一些东
